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发光氮测定仪
化学发光氮测定仪产品描述：仪器采用化学发光原理，用于检测原油、馏分油、石油气及石油化工产品中的总氮含量。具有灵敏度高、噪音低、线性范围宽、抗干扰能力强、分析精度高、操作简便、结果稳定可靠等优点。适用标
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2026-07-10 |
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微库仑测氯仪
RPP-300A微库仑滴定仪（硫、氯）产品描述：仪器采用微库仑原理，用于石油化工、煤化工、芳香烃和天然气等产品的总硫或总氯含量的测定。具有灵敏度高、重复性好等优点。适用标准：氯：SH/T1757、ASTM D5808硫：SH/T 0
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2026-07-10 |
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桌上型半自动显影机
桌上型自动刻蚀机MSD-200F用于对刻蚀均匀性和一致性要求较高的表面处理工艺，外观采用PP、PVC、不锈钢镀特氟龙等材质，耐酸耐碱。适合硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓掩膜版等。蚀刻液成分为硝酸铈铵和冰醋酸的水溶液
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2026-07-10 |
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膜厚测量仪
测量系统规格基本功能：获取薄膜厚度值以及R、N/K等光谱光谱分析范围：380nm-1000nm测量光斑大小：标准1.5mm，最小0.5mm膜厚重复性测量精度：0.02nm（100nm 硅基SiO2样件，100次重复测量）膜厚精度：0.2%或2nm之间较
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2026-07-10 |
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等离子清洗机
等离子清洗机应用行业：半导体行业芯片粘接前处理、引线框、架的表面处理、 BGA 封装等有效去除表面油性污垢和有机污染物粒子。材料行业PI表面粗化、PPS 蚀刻、PN 结去除、 ITO 膜蚀刻ITO 涂覆前表面清洗，提高粘接
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2026-07-10 |
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直写光刻机
光刻机产品特点：数字光刻系统微纳器件无掩模版直写光刻光掩模版制作3D结构曝光功能自动对准功能用户自定义标记对准功能可视化定点曝光功能自动聚焦功能不规则样片曝光快速、精细两种曝光模式支持多种数据格式（GDS
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2026-07-10 |
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光刻机
光刻机产品特点：数字光刻系统微纳器件无掩模版直写光刻光掩模版制作3D结构曝光功能自动对准功能用户自定义标记对准功能可视化定点曝光功能自动聚焦功能不规则样片曝光快速、精细两种曝光模式支持多种数据格式（GDS
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2026-07-10 |
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工具显微镜销售
产品介绍工具显微镜销售日本三丰工具显微镜三丰TM系列工具显微镜适合于测量加工工件的直径和角度,安装可检测螺丝和齿轮形状,小型化设计,十分适于在车间等狭小空间使用.TM-505工具显微镜订货编号176-811 测量范围：X=
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2026-07-10 |
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