| 图片 |
标 题 |
更新时间 |
 |
石英微重天平 QSense Explorer扩展版石英微重天平技术的核心是石英晶体传感器,它由石英晶体夹在两片电极中间形成三明治结构。在电极两端加入一个交流电压,在传感器的共振频率处引发一个小的剪切振动,当交流电压关闭后,振动呈
|
2026-08-31 |
 |
纳米压印胶 针对纳米压印胶需求,天仁微纳可以为客户推荐、对接国内外多种纳米压印胶厂商,并提供工艺咨询服务。纳米压印胶是一种用于纳米压印技术中的材料,主要用于将模板上的纳米结构复制到衬底上。一、基本组成1、热塑性高
|
2026-08-27 |
 |
纳米压印光刻设备 GL300 MLA是天仁微纳新型专门为晶圆级光学加工(WLO-Wafer Level Optics)开发的全自动紫外纳米压印光刻设备,可在200/300 mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。GL300 MLA全自动紫外纳米压印光刻设备支持casset
|
2026-08-27 |
 |
纳米压印材料 天仁微纳自主研发、生产及销售GL-ASL纳米压印抗粘处理,用来减少子模具复制材料和原始模具的粘度,有利于脱模,增加对原始模具的保护。另外,我们还可以为客户提供原始模具的抗粘处理服务。普通等间距矩形或正弦光栅
|
2026-08-27 |
 |
纳米压印模具 客户定制纳米压印模具可根据客户需求,定制纳米压印原始模具。根据结构尺寸和形貌,纳米压印原始模具的加工方法有电子束直写、激光直写、光刻、刻蚀、电镀、机加工等。照明与成像领域,该工艺优化光线利用效率。在手
|
2026-08-27 |
 |
纳米压印设备 GL8 MLA Gen2工艺紫外纳米压印光刻设备是一种专门为晶圆级光学加工(WLO-Wafer Level Optics)开发的全幅紫外纳米压印设备,可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加
|
2026-08-27 |
 |
PDS863液位变送器 PDS863液位变送器是对压力变送器技术的延伸和发展,根据不同比重的液体在不同高度所产生压力成线性关系的原理,实现对水、油及糊状物的体积、液高、重量的准确测量和传送。它适用于流量、液位和压力(差压、表压和绝
|
2026-08-20 |
 |
PDS873远传压力变送器 PDS873远传压力变送器简介:远传差压压力变送器是经过差压变送器改革而来的一款变送器产品,是将差压变送器设计上远传密封装置而形成的远传差压压力变送器,是用于被测量管道内的介质直接进入传感器的一种精密仪表,
|
2026-08-20 |