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开尔文探针系统 Kelvin Probe
研究样品的电表面状态，专用于测量半导体样品表面的电子功函数。扫描 Kelvin Probe（开尔文探针）可以测量 CPD（接触电位差）值，评估半导体和导电材料的功函数。该技术起源于19世纪末，最早由英国科学家开尔文勋爵所提出，随着科学技术的不断进步，开尔文探针技术逐渐得到改进和完善，应用领域也不断扩大。目前，开尔文探针技术已经成为表面科学、材料科学、微电子学等领域的重要研究手段。
适用研究范围材料的功函数费米能级的位置n 或 p 型半导体半导体的能隙表面电势表面态密度表面充放电效应少数载流子扩散长度温度和湿度对功函数的影响更多特性
开尔文探针系统 Kelvin Probe
研究样品的电表面状态，专用于测量半导体样品表面的电子功函数。扫描 Kelvin Probe（开尔文探针）可以测量 CPD（接触电位差）值，评估半导体和导电材料的功函数。该技术起源于19世纪末，最早由英国科学家开尔文勋爵所提出，随着科学技术的不断进步，开尔文探针技术逐渐得到改进和完善，应用领域也不断扩大。目前，开尔文探针技术已经成为表面科学、材料科学、微电子学等领域的重要研究手段。
适用研究范围材料的功函数费米能级的位置n 或 p 型半导体半导体的能隙表面电势表面态密度表面充放电效应少数载流子扩散长度温度和湿度对功函数的影响更多特性
https://www.chem17.com/st648491/product_39400264.html
https://www.ewin-lab.com/SonList-2577949.html