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GL150/300 CLIV紫外纳米压印光刻设备主要功能
● 全自动150/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性
●Cassette to cassette自动上下片，光学巡边预对位
●设备内自动复制柔性复合工作模具，同时支持自动更换工作模具，适合连续生产
●自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程在密闭洁净环境中自动进行，以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2 ），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，支持各种商用纳米压印材料
●产能可大于40片每小时，适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际的纳米压印水平