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光刻机产品特点：
数字光刻系统
微纳器件无掩模版直写光刻
光掩模版制作
3D结构曝光功能
自动对准功能
用户自定义标记对准功能
可视化定点曝光功能
自动聚焦功能
不规则样片曝光
快速、精细两种曝光模式
支持多种数据格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）
背部对准功能（选配）
405nm LD光源（375nm可选）
直写光刻机参数：型号CG-MLC 6系列ModeⅠMode ⅡMode Ⅲ最小特征尺寸0.5μm1μm2μm最小线宽线距0.8μm1.2μm2.5μmCD均匀性10%10%10%两层对位精度 5x5m㎡500nm800nm1000nm两层对位精度 50x50m㎡800nm1000nm1500nm产能50mm²/min100mm²/min300mm²/min最小基板尺寸5mm x 5mm基板厚度0.1 - 12mm(可选)曝光面积150mm x 150mm灰度曝光可选128阶曝光光源Laser, 405nm or 375nm
其它：可选择性多、如桌面式、柜式等；
可提供打样测试，满足工艺后再购买，减少因选择失误造成经济损失；
技术先进、成熟，售后有保障，更多了解请咨询厂家。
https://www.chem17.com/st649911/product_39172088.html
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