点击图片查看原图
DE400DHL电子束蒸发镀膜系统配置一个多坩埚电子束蒸发源，可在基片蒸发沉积金属、半导体或介质材料，是制备lift-off工艺薄膜和低微材料的理想平台。
DE400DHL 电子束蒸发镀膜系统详细介绍
1、核心优势
- 高真空蒸镀环境
- 样品可高温加热、低温冷却
- 高精度镀膜速率与膜厚控制
- 优质薄膜质量，膜厚均匀性与重复性优异
2、自动化与选配功能
- 可选离子束清洗或辅助沉积
- 可选 RF 等离子体清洗
- PLC+PC 全自动控制
- 可选 LOAD LOCK，全自动送样
3、主要技术指标
- 膜厚均匀性：优于+/-3%
- 极限真空度：3E-8 Torr
- 膜厚分辨率：0.1 A
- 蒸发速率分辨率：0.01 A/s
- 基片尺寸：可选：2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
4、材料与工艺能力
- 可沉积金属、半导体、介质材料
- 支持单层、多层薄膜制备
- 支持 LIFT-OFF 工艺蒸镀
- 支持低维材料制备
- 多种样品台或客制化样品台，满足特殊工艺薄膜制备
5、适用场景
- 研发、中试及量产使用
https://www.chem17.com/st683684/product_39823737.html